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電路板產業概論
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105年 - 105-2 電路板製程工程師能力鑑定_初級_第二科:電路板製造基礎概論 #90407
> 試題詳解
13. 高分子材料技術應用於電路板的製程相當普遍,請問影像轉移的製程中下列 敘述何者有誤?
(A)防焊製程的預烤其油墨是從 A-stage 到 B-stage
(B)顯像(Develop)是將已 交聯的高分子材質溶解
(C)Tg 點是高分子材料很重要的一個特性
(D)光阻 劑是屬於高分子材料
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統計:
A(35), B(114), C(27), D(29), E(0) #2442311
詳解 (共 1 筆)
鄧小新
B1 · 2022/09/25
#5619128
影像轉移製程為:壓膜-曝光-顯影-蝕刻-...
(共 128 字,隱藏中)
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14. 電路板細線路的製造是未來重大的技術藍圖請問其中對 LDI(Laser Direct Image)的說明何者正確? (A)不同材質對雷射光源的能量吸收比率不一,所以解析度要細是全由材質 決定(B)較多應用是在感光阻劑上,以雷射曝光再進行後製程如顯像電鍍蝕 刻等(C)它的對位準確性沒有 UV 曝光方式好(D)LDI 製程仍需要用到底 片
#2442312
15. 下列那一項不被 PCB 表面鍍層品質所接受? (A)鍍層區露銅超過 2.5mm(B)凹點或凹陷尺寸大於 0.15mm(C)鍍層區出 現錫濺(D)以上皆是
#2442313
16. 一般基材在交給電路板廠時都會有防氧化層,如何去除防氧化層? (A)砂帶研磨(B)酸洗微蝕(C)滾輪刷磨(D)以上皆非
#2442314
17. 晶片載板(chip-carrier boards)上之 Cu 銲墊,在產品出貨前常會進行表面處理 (surface finish)工程。其中,Au/Pd(P)/Ni(P)三層金屬結構是常見的表面處理 方式之一。下列那個選項不是鍍 Ni(P)層的功用? (A)避免 Cu 銲墊的消耗(B)防止 Au 與 Cu 的交互擴散(C)增加晶片載板於 高頻使用時的訊號完整性(D)避免銲點界面產生大量的介金屬(intermetallic)
#2442315
18. 根據法拉第定律(Faraday's law),在電鍍液相同的情況下,若要在一半時間內 鍍製具相同厚度的電鍍 Cu 膜,則下列何種操作是正確的? (A)將電流密度減半(B)將電流密度調整為原先之 1/4(C)電流密度必須固 定(D)將電流密度加倍
#2442316
19. 下列那一項屬於 IPC 規範於電路板之功能分類定義? (A)一般電子產品(B)專業用途電子產品(C)高可靠度電子產品(D)以上皆 是
#2442317
20. 下列那一項不被 PCB 鍍銅層破洞品質所接受? (A)破洞小於 3 個(B)破洞小於孔長的 10%(C)破洞超過孔周長的 1/4; (D)通孔總數出現孔洞比例小於 10%
#2442318
21. 上光阻、曝光、顯影是電路板廠最常用之圖案轉移製程,底片是其中曝光製 程會使用到的重要工具。電路板製程中所使用到的底片在品保上最重要的要 求為何? (A)與曝光設備之搭配(B)耐酸鹼性(C)尺寸安定性(D)耐用性
#2442319
22. 以目前整體電子產品提高密度的作法而言,電路板之設計會從兩個方向切 入,其一為增加繞線密度,另一者為何? (A)增加層數(B)減少裁切次數(C)縮減銅墊尺寸(D)以上皆非
#2442320
23. 對於高頻產品的應用在電性特性的要求,材料中的何種特性是研發的重點? (A)尺寸安定性(B)抗化學能力(C)可燃性(D)介電性能
#2442321
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