40 關於活動局部義齒牙鈎的彈性度，下列敘述何者正確？
(A)會因牙鈎長度增加而減少
(B)會因牙鈎橫切面的減少而增加
(C)鍛造圓形牙鈎僅能作雙向性的彎曲變形
(D)牙鈎臂尖端漸細與否不影響彈性

41 活動局部義齒蠟型包埋共分為四層，進行第二層包埋後，其表面最凸出緣與包埋盒頂端之間，至少須有多少 mm 的間隙？ (A)5 (B)7 (C) 10 (D) 15

42 製作活動局部義齒時，殘存自然齒若無法提供上下模型穩定且正確之咬合定位時，必須製作咬合記錄基底 （recording base）來記錄上下咬合關係，關於咬合記錄基底的敘述，下列何者錯誤？ (A)咬合記錄基底由基底板及石蠟咬合堤組成 (B)必須於主模型上製作咬合記錄基底，才能將正確的上下模型之牙弓關係轉移至咬合器上 (C)上顎遠心游離端缺牙時，基底板覆蓋於殘嵴上便可，應避免延伸到整個硬腭而干擾咬合記錄之取得 (D)基底板與石蠟咬合堤間必須穩固連結

43 大範圍之遠心游離端缺牙的活動局部義齒製作時，若咬合排列計畫做成雙側平衡咬合（bilateral balanced ，就咬合器與面弓之選擇，以下何種組合為達到此目標之最低需求？ occlusion） (A)簡易型咬合器（simple hinge articulator），任意式面弓（arbitrary facebow） (B)半可調型咬合器（semi-adjustable articulator） ，耳塞式面弓（ear-piece facebow） (C)髁關節型咬合器（Arcon type articulator），運動學面弓（kinematic facebow） (D)全調型咬合器（fully adjustable articulator） ，運動學面弓

44 患者上顎維持原狀，要製作下顎殘餘六顆前牙之活動局部義齒時，將石膏模型置位（mount）到咬合器的步驟，下列順序何者正確？①面弓轉移（facebow transfer） ②定位上顎對咬牙模型 ③定位下顎工作模型 ④記錄顎間關係 (A)①③④② (B)①②④③ (C)①④②③ (D)①②③④

45 活動局部義齒製作時，若使用 Hanau 半可調型咬合器（semi-adjustable articulator），關於其咬合器之髁軌 徑（condyle path）角度之設定，下列敘述何者錯誤？ (A)以面弓轉移（facebow transfer）上顎模型，再以顎間關係記錄置位下顎工作模型 (B)以前伸咬合記錄（protrusive checkbite），來設定水平髁軌徑（以 H 代表）之傾斜角度 (C)用 Hanau 公式 H = L/8 + 12，計算出側向髁軌徑（lateral condylar path 以 L 代表）之傾斜角度 (D)若無前伸咬合記錄，可以平均值約 H = 20～30 度、L = 15～16 度來設定

46 活動局部義齒製作過程中，工作模型使用裂模法（split cast）將其置位於咬合器上，關於裂模法功能的敘 述，下列何者正確？ (A)義齒製作過程中容易將工作模型自咬合器上拆下及再置回 (B)應用中心關係咬合記錄，利用裂模法來設定半可調型咬合器的髁軌徑（condyle path）角度 (C)幫助活動局部義齒之臨床重置位，使義齒可以在咬合器上做咬合調整 (D)有利於主模型從包埋盒取出時的完整性

47 試戴下顎活動局部義齒時，下列何者不是常見的壓迫疼痛區（pressure pain area）？ (A)下顎舌骨脊（mylohyoid ridge） (B)頰棚（buccal shelf） (C)下顎小臼齒舌側隆突（lingual eminence） (D)顎舌骨肌後窩（retromylohyoid fossa）

48 製作活動局部義齒時，下列何種患者適合採用精密附連體（precision attachment）之設計？ (A)口腔衛生不佳者 (B)手部操作能力不良者 (C)支柱牙之高度足夠者 (D)支柱牙之牙周健康不良者

49 下列何者不是牙齒－組織支持式活動局部義齒之功能性印模（functional impression）？ (A)修正模型技術（altered cast technique） (B)個人牙托功能性印模技術（functional impression technique with individual tray） (C)金屬支架提取印模技術（framework pick-up impression technique） (D)二次印模技術（dual impression technique）

50 製作下顎遠心游離端缺牙（distal free-end）的活動局部義齒，下列方法何者可避免支柱牙之傷害？①於遠心端支柱牙使用 RPI 組合設計 ②使用修正模型技術（altered cast technique）或個人牙托功能性印模 ③游離端缺牙區之義齒基底延伸應足夠，延伸範圍包含頰棚（buccal shelf） (A)僅①② (B)僅①③ (C)僅②③ (D)①②③

114年 - 114 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#129137

113年 - 113 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#121780

112年 - 112 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#115992

111年 - 111 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#109985

110年 - 110 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#100625

109年 - 109 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#89514

108年 - 108-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#78366

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106年 - 106-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#64001

105年 - 105-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目) #54600