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公職◆牙體技術學(三)
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112年 - 112 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#115992
> 試題詳解
7 有關固定義齒與全口活動義齒的比較,下列敘述何者正確?
(A)固定義齒的咀嚼力相對較差
(B)固定義齒的異物感明顯較大
(C)固定義齒的牙橋清潔比較不易
(D)固定義齒修理相對容易
答案:
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統計:
A(14), B(23), C(604), D(50), E(0) #3138616
詳解 (共 2 筆)
莊博鈞
B1 · 2025/07/06
#6524189
(A) 固定義齒的咀嚼力相對較差 ⮕咀嚼...
(共 105 字,隱藏中)
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MoAI - 您的AI助手
B2 · 2025/12/10
#7222059
這是一道關於牙科補綴學(Prosthod...
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8 關於殘嵴的經常性變化,下列敘述何者最正確? (A)下顎齒槽骨壁舌側較厚,唇頰側較薄 (B)當下顎牙齒喪失後,殘嵴弓逐漸變小 (C)上顎齒槽骨壁舌側較薄,唇頰側較厚 (D)當上顎牙齒喪失後,殘嵴弓逐漸變小
#3138617
9 全口活動義齒的製作順序為:①建立正中關係咬合記錄 ②咬合蠟堤塑造合宜的牙弓外形 ③決定垂直咬合高度(VDO) ④設定下顎咬合蠟堤咬合平面的高度與位置 ⑤修飾上、下顎咬合蠟堤 (A)①②③④⑤ (B)②④③⑤① (C)③④②⑤① (D)④⑤②③①
#3138618
10 無牙殘嵴會隨著時間漸漸吸收,在後牙區從水平方向觀察其變化,下列敘述何者錯誤? (A)上顎齒槽骨吸收逐漸向內側(腭側) (B)下顎齒槽骨吸收逐漸向內側(舌側) (C)下顎齒槽骨殘嵴牙弓逐漸擴大 (D)上下顎齒槽頂連線,會隨時間變化而逐漸傾斜
#3138619
11 為確保最終工作用模型邊緣再現以及牙技作業時能承受必要厚度,全口活動義齒製作圍盒的敘述,下列何者正確? (A)印模邊緣的下方約 5 mm 圍蠟並熔融黏著,圍盒用蠟在印模最高部位約 8 mm 高度為止輕輕圍蠟 (B)印模邊緣的下方約 2 mm 圍蠟並熔融黏著,圍盒用蠟在印模最高部位約 8 mm 高度為止輕輕圍蠟 (C)印模邊緣的下方約 5 mm 圍蠟並熔融黏著,圍盒用蠟在印模最高部位約 13 mm 高度為止輕輕圍蠟 (D)印模邊緣的下方約 2 mm 圍蠟並熔融黏著,圍盒用蠟在印模最高部位約 13 mm 高度為止輕輕圍蠟
#3138620
12 在製作全口活動義齒個人印模牙托時,關於緩壓(relief)的敘述,下列何者錯誤? (A)藉此可達到選擇性加壓的印模 (B)受到咬合力會痛的地方需緩壓 (C)下顎頰棚處需緩壓 (D)臼齒後墊需緩壓
#3138621
13 全口活動義齒工作模型之咬合堤的材料可使用下列何者?①石蠟 ②製模膠 ③樹脂 ④矽膠 (A)僅①②③ (B)僅②③④ (C)僅①③④ (D)①②③④
#3138622
14 製作全口活動義齒時,關於咬合堤(occlusal rim)的敘述,下列何者錯誤? (A)上顎與下顎的咬合堤標準高度共約 40 mm (B)目的是要測試咬合力量大小 (C)於口腔內進行美觀上的修正 (D)協助牙醫師取得上下顎間咬合關係
#3138623
15 下列有關全口活動義齒後牙部人工牙選擇需要考量以下那些因素?①頰舌寬度(buccolingual width) ②近遠心寬度(mesiodistal width) ③切緣齒頸徑(incisocervical dimension) ④外廓高隆(contour height) ⑤牙尖傾斜度(cuspal inclination) (A)①②⑤ (B)①②④ (C)②③④ (D)③④⑤
#3138624
16 關於全口活動義齒咬合模式的敘述,下列何者錯誤? (A)具解剖形態的人工牙常選用雙側平衡(bilateral balanced)咬合模式 (B)不具解剖形態的人工牙無法使用平衡(balanced)咬合模式 (C)不具解剖形態的人工牙或零度牙適用平面(monoplane)咬合模式 (D)舌側(lingualized)咬合模式是將咬合力誘導到舌側而使義齒穩定
#3138625
17 全口活動義齒人工牙排成舌側化咬合(lingualized occusion)時,下列何者正確?①與平衡咬合之咬合接觸 點相同 ②平衡側後牙不需接觸 ③側方運動時,工作側只有上顎後牙舌側咬頭與下顎後牙有接觸 ④中心咬合時,上顎後方之頰側咬頭不與下顎後牙接觸 (A)①② (B)②③ (C)③④ (D)①④
#3138626
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