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108年 - 108 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#77994
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題組內容
二、由 p 型砷化鎵(GaAs)半導體與金(Au)形成蕭特基接面(Schottky ,假如金的功函數(work function, qφm)為 4.8 eV,砷化鎵的電 junction) 子親和力(electron affinity, qχ
SC
)為 4.07 eV,砷化鎵的能隙(Eg)為 1.42 eV,砷化鎵的功函數(work function, qφ
SC
)為 5.47 eV。
⑵請繪出此蕭特基接面的能帶圖,並指出此蕭特基接面的能障與內建電 位的位置處。 (10 分)
相關申論題
三、⑴對於一般的矽材料之 npn 雙極性電晶體設計,都是採用高濃度的射 極,低濃度的薄層基極。請說明此低濃度的薄層基極對電晶體的高頻 響應有何影響?(10 分)
#317273
⑵當 npn 雙極性電晶體工作在高集極電流情況下會產生科克效應(Kirk effect),請說明此科克效應對電晶體高頻響應的影響。 (10 分)
#317274
四、⑴成長二氧化矽(SiO2)薄膜的方式通常都使用熱氧化法(thermal oxidation),熱氧化法又分乾氧化(dry oxidation)與濕氧化(wet ,請解釋為什麼濕氧化的成長速率大於乾氧化的成長速率? oxidation) (10 分)
#317275
⑵在一光學微影製程(photolithography)系統,假如透鏡的直徑為 5.0 cm, 透鏡至影像的距離為 7.0 cm,若使用的紫外光波長為 350 nm,則此系 統的最小線距解析度(line resolution)為何?(10 分)
#317276
五、⑴請說明在使用正光阻與負光阻常用的顯影溶液。(10 分)
#317277
⑵請繪出以擴散技術與離子佈植技術的摻雜雜質濃度對半導體深度的 分布圖。(10 分)
#317278
一、史料對歷史的研究與撰寫至關重要,試述中外史家對史料的分類,並說 明各類史料的定義及其特質。(25 分)
#317279
二、歷史是過去人類活動的軌跡,而人物傳記則是記述人物事跡的歷史體 裁。以《史記》列傳為例,請詳述司馬遷在人物書寫所呈現的特色,並 論述現代史家在撰寫人物傳記時應注意的問題。(25 分)
#317280
三、口述歷史在某種程度上突破了「精英」與「文字」的雙重限制,讓我們 得以更廣泛地傾聽「過去的聲音」。然而口述歷史的方法和流程亦引發 對歷史書寫客觀性的爭議,請詳述此一爭議的內容並申論其解決之道。 (25 分)
#317281
四、近來史學界繼「文化轉向」之後,掀起一波對全球史的關注,全球史並 非以全球為研究單位,而是思考如何在既有的研究課題中帶入全球視 野。請詳述全球史目前所關切的研究議題,並申論此一研究轉向所強調 的論點。(25 分)
#317282
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