17. 氫氟酸(HF)溶液為半導體製造業使用的蝕刻液，其廢水排放前加入鹼液中和後，可再加入下列哪一種物質去除廢水中的氟離子？ (A)NaCl (B) AgCl (C) CaCl₂ (D) FeCl₃ (E) NH₄Cl

19. 丙烷在充足氟氣下燃燒的熱反應式如下： $ \mathrm{C}_{3}\mathrm{H}_{8(g)} + 5\mathrm{O}_{2(g)} \rightarrow 3\mathrm{CO}_{2(g)} + 4\mathrm{H}_{2}\mathrm{O}_{(l)} \quad \Delta H^{\circ} = -2.2 \times 10^{3}\ \mathrm{kJ} $ 丙烷的熱值是多少 $\mathrm{kJ/kg}$？(原子量：$\mathrm{H} = 1.0$；$\mathrm{C} = 12.0$) (A)$2.5 \times 10^{4}$ (B) $4.4 \times 10^{4}$ (C) $5.0 \times 10^{4}$ (D) $1.0 \times 10^{5}$ (E) $4.4 \times 10^{5}$

17. 氫氟酸(HF)溶液為半導體製造業使用的蝕刻液，其廢水排放前加入鹼液中和後，可再加入下列哪一種物質去除廢水中的氟離子？
(A)NaCl
(B) AgCl
(C) CaCl₂
(D) FeCl₃
(E) NH₄Cl

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