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化學程序工業(包括質能均衡)
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104年 - 104 關務升官等考試_簡任_技術類(選試化學程序工業研究):化學程序工業研究#41697
> 申論題
題組內容
五、如下流程,求:
⑴程序進料及總產物的組成。 (8 分)
相關申論題
⑵單程轉化率。 (4 分)
#129786
⑶總轉化率。 (4分)
#129787
⑷反應式 A → xB 之 x 值。 (6分)
#129788
⑴求使閉迴路極點(closed-loop poles)落在 {−2 + j2 , −2 − j2} 的狀態回授增益 K。 (10 分)
#129791
⑵試設計狀態估測器極點落在( − 4, −4 )。(10 分)
#129792
⑶將上述控制法則和狀態估測器結合並證明閉迴路系統極點仍為{−2 + j2 , −2 − j2} 。 (10 分)
#129793
一、液相一階不可逆反應 A → B 於一體積 600 公升之非理想流動式反應器中進行,進料 含有 40 mol%的 A 與 60 mol%的惰性物質,進料總莫耳流率為 100 mol/min,進料濃 度 CA0 = 1 mol/L,出口處 A 之轉化率(conversion)為 0.92。若相同的反應條件發生 在體積 600 公升之理想栓流反應器 (plug flow reactor, PFR) A 之轉化率可達 0.98。 中, 假設此非理想反應器之行為與 N 個等體積串聯之連續攪拌槽反應器(continuous stirred tank reactor, CSTR)行為相同,且此 N 個 CSTR 體積總和亦為 600 公升。基於 此假設,請計算出 N 的數值 (N 可為非整數) 以及此反應之速率常數 (rate constant)。 (25 分)
#129796
⑴請推導矽薄膜之生成速率表示式(rSi)。(15 分)
#129797
⑵請分別說明矽薄膜之生成速率隨 SiCl4、H2 與 Cl2 分壓之變化關係。(6 分)
#129798
⑶請問此反應機制是遵守 Eley-Rideal 還是 Langmuir-Hinshelwood 理論。(4 分)
#129799
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